阻碍SiC陶瓷烧结的因素
SiC的构成单元为Si与C原子比为1:1的正四面体,在SiC晶格中,Si与C之间的平均键能为300kJ/mol,共价键与离子键比值约为4:1,这使得其难以烧结成致密陶瓷。阻碍SiC陶瓷烧结的因素有以下两个方面:
①热力学方面
SiC的晶界能较高,粉体颗粒表面能相对较低,SiC陶瓷烧结推动力低,烧结难度增大。目前可通过引入烧结助剂、选用纳米级原料细粉及施加外部压力的方式来促进烧结。
②动力学方面
SiC晶格原子间的键能使得物质迁移所需能量高,物质难以扩散,而蒸发—凝聚传质至少需要蒸气压10-1Pa才能有效果,因此很难通过蒸发—凝聚传质促进SiC材料烧结。目前,可通过烧结助剂的添加加快SiC质量传递速率或生成一定数量的液相来实现流动传质。
下一篇:氟化物烧结助剂对SiC陶瓷烧结的影响上一篇: 碳化硅陶瓷膜分离技术的应用介绍
相关资讯
最新产品
同类文章排行
- 棕刚玉磨料电导率影响的因素有哪些?
- 碳化硅微粉:喷砂与磨料行业中的明星材料
- 碳化硅、白刚玉等磨料微粉是如何进行颗粒整形?
- 大面积碳化硅陶瓷膜层化学气相沉积(CVD)技术
- 碳化硅陶瓷反应连接技术
- 高精度碳化硅陶瓷制品无模成型工艺
- 碳化硅陶瓷凝胶注模成型工艺
- 集成电路制造装备用精密陶瓷结构件的特点
- 固相烧结碳化娃(SSiC)优缺点
- 如何实现碳化硅晶圆的高效低损伤抛光?
最新资讯文章
您的浏览历史
