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    碳化硅技术在家电行业的应用[ 02-26 13:37 ]
    回溯半导体技术的发展历程,大致分为3个时代。第一代半导体材料主要是硅和锗,上世纪60年代之后,硅基半导体逐渐成为主流,直到现在依然是应用最为广泛的半导体材料,全球95%以上的芯片是以硅片为基础材料制成的。第二代半导体材料的代表是砷化镓,可以制造更高频、高速的集成电路,但是以目前的需求来看,砷化镓材料的禁带宽度依然较小。第三代半导体材料是以碳化硅、氮化镓为代表的材料,可以制备耐高压、高频的功率器件。这些材料中,碳化硅是综合性能最好、商品化程度最高、技术最成熟的第三代半导体材料,目前已经在5G通信、PD快充、新能源汽车
    SiC碳化硅在电动车中起到什么作用?[ 02-22 14:12 ]
    举个例子,现在很多人手机都用上了“氮化镓”充电器,这种新材料充电器体积非常小,但发热小充电效率很高。而汽车用SiC碳化硅就是与消费电器里氮化镓一样神奇的功率半导体。 首先说说SiC碳化硅的作用。一辆电动车充电的时候,它需要把交流电转换成直流电,然后存储在锂电池中。锂电池中的高压直流转化为交流电,然后提供交流电动机使用。 上面这些交流—直流—交流等复杂的变换过程,我们称为整流或逆变,很不幸这个过程都需要发热,都会产生功率损耗。 电动汽车涉及功率半导体的
    碳化硅功率模块的应用[ 02-21 12:18 ]
    碳化硅模块是支撑各种工业应用的关键技术之一,相比传统硅基IGBT功率模块具有更高功率密度、更高可靠性、更高工作结温、更低寄生电感、更低热阻等特性。在需要提升系统功率密度、使用更高主开关频率的尖端电力电子设备的性能升级过程中,现有硅基IGBT配合硅基FRD(快恢复二极管)的性能已无法完全满足要求,需要高性能与性价比兼具的主开关器件。 随着SiC技术的日趋成熟和商业化应用,其独特的耐高温性能不断加速推动结温从150℃迈向175℃,甚至已出现了200℃的产品。借助于这种独特的高温特性和低开关损耗优势,可以为未来的高
    烧结温度对SiC多孔陶瓷性能的影响[ 02-20 08:36 ]
    (1)XRD分析表明,随着烧结温度的升高,SiO2的特征衍射峰强度逐渐升高,在1690℃时SiO2的特征衍射峰强度最高,这是因为烧结温度较高导致了SiC表面发生了氧化反应,形成了致密的氧化膜,包覆了SiC。 (2)气孔率测试发现,随着烧结温度的升高,SiC多孔陶瓷的气孔率呈现出先降低后增加的趋势,在1660℃时气孔率最低为32.1%。 (3)分析发现,在1600和1630℃下烧结的SiC多孔陶瓷中的小颗粒较多,且SiC多孔陶瓷的颗粒较为分散;随着烧结温度的升高,小颗粒相逐渐减少,断面出现了较多的气孔,且
    丝瓜衍生环保型碳化硅陶瓷基复合相变材料[ 02-19 10:22 ]
    据悉南京航空航天大学低碳航空动力与绿色能源创新团队宣益民院士、刘向雷教授等人在Energystoragematerials上发表了题为“Loofah-derivedeco-friendlySiCceramicsforhigh-performancesunlightcapture,thermaltransport,andenergystorage”的研究论文。该工作在团队前期研究(Mater.TodayEnergy,21(2021)100764;Sol.EnergyMaterSol.Cells
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